半導體工藝想要突破1nm製程，就必須靠第二代光刻機。
ASML是全球唯一一家量產EUV光刻機的廠商，而無論是台積電、三星、英特爾的7nm、5nm及未來的3nm、2nm製程晶片，都要依賴他們提供EUV光刻機。依照過去的數據，目前EUV光刻機一台的售價就超過1億美元，成本極高，但是依然供不應求。
同時，對於半導體廠商來說，他們更急著的，是ASML何時才能推出第二代的EUV光刻機。
ASML的EUV光刻機目前使用的還是第一代，EUV光源波長在13.5nm左右，物鏡的NA數值孔徑是0.33，發展了一系列型號。
其中最早量產出廠的是NXE：3400B，產能有限，一小時生產晶圓是125PWH，目前的出貨主力是NXE:3400C，產能提升到135WPH，今年底還有NXE:3600D系列出貨，產能再進一步提升到160WPH，不過價格也會提升到1.45億美元了。
但是，現在第一代的EUV光刻機的NA指標太低，解析度不夠。所以半導體廠商的奈米製程也無法突破。而在ASML的規劃中，第二代EUV光刻機的型號將是N XE：5000系列，其物鏡的NA將提升到0.55，進一步提高光刻精度，半導體工藝想要突破1nm製程，就必須靠第二代光刻機。
然而NA 0.55的二代EUV光刻機沒那麼容易，原本預計最快2023年問世，現在，又有傳聞表示NXE:5000系列已經跳票，而且一下子就跳票三年，要到2025-2026年才有可能問世了。
不僅時間延期，二代EUV光刻機的價格也會大漲，預計會達到3億美元，是現有EUV光刻機的2-3倍，這就意味著未來的高階晶片的生產成本再度提升，就算真的達到1nm製程，也不見得付得起這個生產價格。
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