2奈米晶片研發遭遇瓶頸，沒ASML下一代NA EUV曝光機搞不定、但價格也是天價

在業內，比Intel、台積電、三星還要早就能接觸到ASML曝光機新品的是比利時微電子研究中心（IMEC），雖然名氣不大，但其實它是世界上最大的半導體專門研究機構。尤其是在地緣關係上，因為兩個機構離得近，ASML的原型試做機，往往在完工後就第一時間送交IMEC評估。

日前，IMEC首席執行長Luc Van den hove在公開路線圖時表示，當前的EUV曝光設備其實可以響應到2nm的微縮水準，不過，想要超越，必須要靠下一代高NA EUV曝光機。

他建議ASML在未來3年內，全力投入產能到高NA曝光機上。

數值孔徑（英語：NA, Numerical aperture）是光學系統的一個無因次數，用以衡量該系統能夠收集的光的角度範圍。在光學的不同領域，數值孔徑的精確定義略有不同。在光學顯微鏡領域，數值孔徑描述了物鏡收光錐角的大小，而後者決定了顯微鏡收光能力和空間解析度；在光纖領域，數值孔徑則描述了光進出光纖時的錐角大小。

所謂高NA也就是曝光機的透鏡和反射鏡數值孔徑達到0.55，進而增加曝光解析度，以便製備更精密的為電路圖像。相對來說，目前的EUV曝光機均停留在0.33的水準。

一切順利的話，ASML會在明年推出其首款高NA EUV曝光機，Intel、三星和台積電都爭相第一時間部署進廠，其中Intel下手最快。

這款曝光機價值高達4億美元（約合120億台幣），組裝好的體積有雙層巴士大、重超200噸。