NVIDIA於GTC 2023春季展發表多款生成式AI技術應用,以及多種的「平台即服務」的AI雲端服務,還有與半導體領導企業共同研發的cuLitho函數庫。
多種AI應用與服務
NVIDIA將持續推廣DGX Cloud、Omniverse Cloud等雲端服務,並推出的AI Foundations建構於DGX雲端服務以及AI Enterprise平台上,透過NeMO大型語言模型、Picasso圖像生成、BioNeMO智慧藥物研發等技術提供企業更多樣的客製化生成式AI服務。
其中Picasso與大家熟悉的「AI電繪」類似,但它不只可以將文字描述轉換為圖像,甚至還可以生成影片與3D模型,應用範圍更加多元。NVIDIA與全球視覺內容創造及內容交易市集Getty Images合作,訓練負責任的生成式AI圖片、影片(Generative Text-to-Image, Text-to-Video)基礎模型,讓使用者能夠透過文字提示產出圖片和影片,過程使用Getty Images完全授權的圖像進行訓練,並會向藝術家提供這些模型所產生之任何收入的版稅。
NVIDIA也與全球創意平台Shutterstock合作,服務訓練生成式AI 3D建模(Generative Text-to-3D)基礎模型,簡化製作3D模型的工作時間,只需幾分鐘就能完成原本需要幾天的工作進度。其過程使用完全授權的Shutterstock圖像與資料,並通過投稿人基金來補償藝術家。未來Shutterstock也計劃將此模型推廣至其平台,以簡化3D建模工作,並快速在Omniverse中發展工業數位孿生及建構3D虛擬世界的進度。
企業用戶可以透過網路瀏覽器存取執行於DGX Cloud的NeMo與Picasso服務,開發人員可以透過API輕鬆調用各種AI模型,並透過AI Foundations執行大規模地AI推論,並享有預先訓練好的模型、資料處理框架、向量資料庫和個人化、最佳化的推論引擎、應用程式設計介面、NVIDIA技術支援等6大優勢,協企業針對需求進行AI模型最佳化。
此外NVIDIA也會推出全新H100 NVL、L4等採用PCIe介面的運算卡,將旗下推論平台擴充至4種機型,並維持單一架構與單一軟體堆疊,滿足企業更多元與不同量級的AI運算需求。H100 NVL是部署ChatGPT等大規模語言模型的理想選擇,它具有94GB記憶體與Transformer加速引擎,並可透過NVLINK串接組合為188GB記憶體,執行GPT-3推論的效能為前代A100的12倍。L4則是單槽、半高的輕量運算卡,能夠安裝於多數伺服器,讓現有的伺服器也能輕鬆擴充AI運算功能,帶來較處理器(CPU) 高出120倍的AI影片生成效能,能源效率也提升99%。
TSMC導入AI提生晶片生產效率
NVIDIA也與ASML、TSMC(台積電)、Synopsys等半導體領導企業共同研發能夠加速晶片設計與製造的技術,克服來自半導體製程即將面臨物理極限的挑戰。
cuLitho是款針對運算式微影(Computational Lithography)技術開發的函數庫,可以透過GPU加速微影成像模擬與校正,強化自動量測和檢測的效果,確保微影製程中電路精準度,提升製程控制能力以及良率。
目前TSMC已經將cuLitho整合至生產流程,Synopsys也將其導入晶片自動化設計軟體,而NVIDIA Hopper架構GPU就是受益於這項新技術。半導體設備製造商ASML也正與NVIDIA密切合作,計劃在旗下所有微影軟體中納入支援GPU加速功能。
NVIDIA表示透過GPU加速的cuLitho,能夠提供高於目前微影技術40倍的性能躍升,它搭載500組DGX H100 GPU的系統能夠完成40,000組CPU系統的工作,並可完成運算式微影流程的所有環節,有助於減少電力消耗並降低環境衝擊。
cuLitho的短期優勢在於能夠協助晶圓廠每天多生產3~5倍的光罩(Photomask),並較目前系統節省9備電力消耗,在一夜之內完成過去需要花廢2週的工作流程。至於長遠來看,cuLitho能夠達到改善設計、增加電晶體密度、提升產能,以及將AI導入微影製程,強化半導體設計與生產能力。
NVIDIA也提到在半導體製程中,「運算時間」也成為企業需要考量的成本,隨著新製程節點中的晶體管數量更多,對精確度的需求也越來越高,因此設計過程所需的運算效能也跟著提高,讓所需時間成本超出摩爾定律的預測,將導致拖慢半導體創新的步調伐。cuLitho可以消除這些瓶頸,並提升光學接鄰修正(Optical Proximity Correction,OPC)的修訂速度,甚至能促成曲線光罩(Curvilinear Mask)、高數值孔徑極紫外光微影(High NA EUV Lithography)、次原子光阻劑建模(Sub-Atomic Photoresist Modeling)等新技術之發展。
TSMC執行長魏哲家也表示,cuLitho在加速運算式微影方面取得了令人欽佩的進展,並將高成本的運算負載轉移至GPU,為TSMC開創了反向微影(Inverse Lithography)等新技術的可能性,以及在晶片製造中更廣泛導入深度學習,為半導體微縮做出重要貢獻。
GTC將於2023年3月20日至24日間舉辦眾多線上活動以及由專家主持的演講,更多資訊可以參考GTC官方網頁以及我們的後續報導。
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